这些3毫米硅磁盘的两侧有50nm的超低应力氮化硅层（氮化硅），在AFM试验中需要用氮化硅作为背景的试样磁盘中。表面粗糙度为0.65±0.06nm，平均粗糙度（Ra）0.45±0.02nm。

产品规格
膜厚度：两侧50nm的超低重音氮化硅
盘厚度为200μm的硅支持
圆盘直径：3毫米
表面粗糙度：表面粗糙度为0.65±0.06nm，平均粗糙度（Ra）0.45±0.02nm
包装：每个盒子可容纳10个光盘。